0 petrel相控建模 如何导入2D趋势面问题！ 描述：1图片： 描述：2图片： 描述：3图片： 描述：4图片： 描述：5图片： 最近有很多朋友问到这个问题，2D趋势面如何导，小弟整理下，其实这个问题并不是太复杂；一、工具栏--insert-new folder 创建一个文件夹，放置沉积微相平面图二、import--选择JPG/BIMP格式 --导入平面图--设置好四角坐标如图1三、在导入图片上...

简述n阱pmos的工艺流程    英文回答：    The process flow for fabricating an n-channel PMOS (p-type metal-oxide-semiconductor) transistor involves several steps. Here is a brief description of th...

太赫兹器件加工工艺流程    英文回答：    The processing of terahertz devices involves several steps to create functional devices that operate in the terahertz frequency range. Here is a general ove...

Geological  English  地质英语英语构词法（一）一、词的结构：词根（或单词）附加前、后缀1、词根、词干(root,base)词根——一般只有460余个，来源于英语、拉丁语、希腊语（同形异义根，同义异形根）。词干——加词尾之前词根的变形，常常是未经词形变化的原词。如modify的词根是mod，词干是modi；live的词根是lov，词干是love词根举例：（...

沉积学sedimentology沉积物sediment沉积岩sedimentary rock沉积作用sedimentation,deposition沉积分异作用sedimentary differentiation沉积旋回sedimentary cycle,depositional-cycle同生作用syngenesis成岩作用diagenesis后生作用(又称晚期成岩作用)epigenesist...

A开头英语单词单词词汇（1）Aabsent-minded adj. 心不在焉的absorb vt. 吸收；吸引absorbed adj. 投入的，专注的，全神贯注的absurd adj. 荒唐的，荒诞的，怪诞的academic adj. 学习良好的，学术的acceptable adj. 可接受的acre n. 英亩addition n. 加，增加in addition 另外admit vt&...

二氧化碳提炼钻石的原理二氧化碳提炼钻石是一种人工合成钻石的方法，也被称为化学气相沉积法（Chemical Vapor Deposition，CVD）。CVD是一种利用气相反应在高温高压条件下合成材料的方法，该方法已经被广泛应用于合成钻石、金刚石薄膜、硼氮化物等材料的生产中。二氧化碳提炼钻石的过程主要分为两个步骤：净化和沉积。首先，净化步骤是对二氧化碳气体进行净化处理，以确保原料气体的纯度。二氧化碳...

高能质子在散裂靶中的能量沉积计算与实验验证*周斌1)    于全芝2)†    胡志良1)    陈亮3)    张雪荧3)    梁天骄1)1) (散裂中子源科学中心, 东莞　523803)2) (中国科学院物理研究所, 北京　100190)3) (中国科学院近代物理研究所, 兰州　730000)...

农业机械学报第51卷增刊2 2020年12月doi:10.6041/j.issn.1000-1298.2020.S2.030固定管道式常温烟雾系统雾滴沉积仿真与试验李雪2陆岱鹏・2王士林・2范道全1周浩1吕晓兰・2（1.江苏省农业科学院农业设施与装备研究所，南京210014；2.农业部长江中下游设施农业工程重点实验室，南京210014）摘要：为了进一步研究固定管道式常温烟雾系统的风场分布特性和雾滴...

化学气相沉积特点    化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）是一种制备薄膜材料的技术。它通过在气相中传输气体分子的方式沉积在物质表面上。此技术的特点如下：deposition    一、沉积速率高    化学气相沉积具有较高的沉积速率，且可保证薄膜均匀，均一。沉积的速率可以调整，可以根据所需的沉积速度...

2020年12月第44卷 第12期Vol.44No.12Dec.2020 MATERIALS FOR MECHANICAL ENGINEERINGDOI：10.11973/jxgccl202012004磁控溅射不同元素掺杂ws2薄膜的组织和纳米压痕力学性能贺江涛V，蔡海潮3，薛玉君1,2，杨芳2，马喜强2(河南科技大学1.机电工程学院，2.河南省机械设计及传动系统重点实验室，洛阳471003；3....

溅射沉积ddr计算公式溅射沉积（Sputter Deposition，简称SD）是一种常用的薄膜制备方法，广泛应用于光电子、微电子、纳米技术等领域。它通过高能离子轰击固体表面，使表面原子离开固体并沉积在目标基底上。溅射沉积的核心过程是溅射。在溅射装置中，靶材和基底置于真空室内，并通过辅助电源提供正离子束。当高能离子轰击靶材表面时，靶材中的原子被击中并弹出，形成离子和中性原子的混合束流。离子束穿过真...

溅射沉积ddr计算公式(一)溅射沉积DDR计算公式溅射沉积基本概念溅射沉积（Deposition by Sputtering，简称DDR）是一种通过离子轰击固体材料而使材料表面原子脱离并沉积到其他位置的技术。在溅射沉积过程中，离子的能量和角度对沉积膜的性质和形貌有着重要的影响。溅射沉积速率（Sputtering Deposition Rate）溅射沉积速率是衡量单位时间内溅射材料沉积到基底表面上的...

deposition同轴送粉激光定向能量沉积    同轴送粉激光定向能量沉积（Direct Energy Deposition，DED）是近年来在三维打印制造领域广为关注的新技术。该方法采用激光或电弧等热源将金属或其他材料粉末喷射到被加工件表面，同时在粉末和被加工件表面之间形成一个熔化池，通过控制粉末和能量输入来实现材料沉积和成形。同轴送粉激光定向能量沉积技术相对于其他制造技术...

原子层沉积镀膜    原子层沉积（Atomic Layer Deposition，简称ALD）是一种重要的薄膜制备技术，它能够在纳米尺度精确地控制物质的沉积，是一种独特的化学气相沉积技术。原子层沉积技术是在晶体硅制造过程中作为薄膜制备的一种核心技术，同时在许多新兴领域得到广泛应用，如薄膜太阳能电池、LED、MEMS、柔性电子学、量子点等领域。    原子层沉...

cvd合成钻石原理CVD合成钻石（Chemical Vapor Deposition diamond）是一种利用化学气相沉积技术合成高质量钻石的方法。其原理主要包括以下几个步骤：1. 提供碳源：通过提供合适的碳源，如甲烷（CH4）、乙烯（C2H4）等，为合成钻石提供供应碳原子的基础。2. 离子化碳源：将碳源离子化，通常使用射频等离子体产生电子和离子。3. 沉积碳原子：在合成钻石的衬底上，通过控制反...

pvd是什么意思PVD(Physical Vapor Deposition):物理气相沉积，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。PVD一般用来表面改性或镀涂层，包括真空蒸镀、离子溅射、离子镀等。①离子溅射镀膜技术：离子溅射镀膜技术是在真空室中，利用荷能粒子轰击靶材表面，通...

PVDCVD工艺参数PVD（Physical Vapor Deposition）和CVD（Chemical Vapor Deposition）是两种常用的表面涂层工艺，用于为材料表面添加附着性、耐磨性、耐腐蚀性等功能薄膜。下面将详细介绍PVD和CVD的工艺参数，以及它们各自的特点和应用。depositionPVD工艺参数：1.作用气体：PVD过程通常使用惰性气体，如氩气，用于提供等离子体和清除反应...

物理气相沉淀法物理气相沉淀法（Physical Vapor Deposition，PVD）是一种利用真空技术将固态物质直接蒸发成气态，通过凝固后的沉积反应形成薄膜的方法。以下从其基本原理、优点、缺点、应用等方面进行详细介绍。一、基本原理物理气相沉淀法的基本原理是利用真空技术，将需要制备的材料，比如金属、合金、氧化物等直接蒸发到真空沉积室的高温、低压条件中，形成气态物质后，遇到基板表面或中游气体时，...

物理气相沉积和化学气相沉积物理气相沉积 (Physical Vapor Deposition, PVD) 是一种通过物理方式将源材料转化为薄膜的技术。在 PVD 过程中，源材料通常是固体或液体，通过热或电子束等方式将其转化为气态，再沉积在被涂层表面上。常用的 PVD 技术有阴极溅射、磁控溅射和真空电镀。化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD) 是一种通过化学反...

物理气相沉积特点物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）是一种将金属或非金属材料沉积在基底表面上的技术。它具有以下特点：一、高纯度物理气相沉积可以在真空环境中进行，不会受到空气、水等杂质的干扰，从而能够生产高纯度的薄膜。这使得PVD薄膜在电子器件等高科技产业中具有广泛的应用。二、可控性强物理气相沉积过程中，可以通过控制沉积条件、基底温度、沉积速度、沉积时间等参数来...

反应等离子体沉积 rpd    等离子体沉积 (plasma deposition) 是一种重要的表面修饰技术。该技术可以利用等离子体反应生成薄膜或涂层，并用于实现无机、有机和复合材料的功能化。相较于传统化学气相沉积技术，等离子体沉积可以降低处理温度和压力，从而保持材料的原始化学性质。反应等离子体沉积 (reactive plasma deposition, RPD) 是等离子...

熔融沉积成型的成型原理熔融沉积成型（Fused Deposition Modeling，FDM）是一种常见的3D打印技术，也被称为熔融沉积制造或熔融沉积建模。它的成型原理是通过将熔融的材料逐层堆积，最终形成所需的物体。熔融沉积成型的过程可以简单地分为以下几个步骤：预处理、成型、支撑结构、后处理。预处理阶段主要包括材料选择和模型设计。在FDM技术中，熔融材料通常是塑料丝料，如ABS（丙烯腈-丁二烯-...

化学气相沉积法cvd1. 什么是化学气相沉积法（CVD）?CVD是chemical vapor deposition的缩写，是一种用于有机薄膜或无机薄膜制造的技术。它是一种通过将溶剂热散发形成薄膜的过程。在溶剂中添加了几种原料，其原理是热释放过程中会产生气态原料。当这些气态化合物沉积（即固化）在共晶材料表面（如金属和绝缘体表面）上，就形成了膜。deposition2. CVD的工艺流程CVD的工艺...

物理沉积法物理气相沉积法用物理的方法使镀膜材料气化，在基体表面沉积成膜的方法物理气相沉积(Physical Vapor Deposition简称PVD) 是用物理的方法(如蒸发、溅射等)使镀膜材料气化，在基体表面沉积成膜的方法。除传统的真空蒸发和溅射沉积技术外，还包括近30 多年来蓬勃发展起来的各种离子束沉积，离子镀和离子束辅助沉积技术。其沉积类型包括: 真空蒸镀、溅射镀、离子镀等。物理气相沉积技...

fcvd原理    FCVD（Flame Chemical Vapor Deposition）是一种常用的纳米材料制备技术，简单来说就是通过火焰化学气相沉积（CVD）方法来生成纳米级的化合物材料，如金属氧化物、碳化物、氮化物等材料。FCVD技术可以在相对较低的温度和压力下，制备具有较高晶体质量和结晶度的纳米薄膜材料，因此在各种应用领域得到广泛的应用，如材料科学、纳米技术、能源储...

激光划刻机LASERLight Amplification by Stimulated Emission of Radiation  激光器Category种类Components元器件Oscillator振荡器Scriber划线器CCDCharge Coupled Device 电荷耦合器件Alignment Camera对位镜头linear motor直线电机guide rail导轨...

21-I-004流化床－化学气相沉积法可控及批量制备碳纳米管骞伟中＊，魏飞清华大学化工系，100084，北京E-mail: qianwz@mail.tsinghua.edu化学气相沉积法目前已经发展成为批量制备碳纳米管的最有效率方法之一。而流化床－化学气相沉积法更是提供了大量碳纳米管充分生长的超大空间以及均匀的传热传质环境。在此，本文将总结流化床－化学气相沉积法的主要核心。1. 任何可以悬浮...

pecvd沉积边缘效应PECVD沉积边缘效应是在PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，增强型化学气相沉积）过程中产生的一种现象。PECVD是一种利用等离子体介质（plasma medium）在较低温度下进行气相沉积的技术。在PECVD过程中，等离子体的密度最高处于沉积物表面附近，然后逐渐减小向气相扩散。当气相中的前驱体（例如硅源气体）接近沉...

化学气相淀积    化学气相淀积(ChemicalVaporDeposition,CVD)是一种通过将其他化合物以气态状态溶解于试管中，利用热和加热力学过程将化合物变成固态沉积在某种物质表面上的方法。CVD技术在工业中也被称为气相沉积(GPD)。主要用于制造陶瓷、金属层和石墨烯等复杂材料，以及电子、量子级材料等。    CVD的施工过程一般包括反应气的选择、...