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CHEMKIN4.0.1入门指南-燃烧学辅助教程
CHEMKIN 4.0.1入门指南——《燃烧学1》辅助教程CHEMKIN 4.0.1入门指南 (1)第一章安装和简介 (2)1.1 安装 (2)1.2 简介 (2)第二章简单使用入门 ...................................................................... 错误！未定义书签。2.1 用户界面.......................
CHEMKIN入门指南
CHEMKIN 4.0.1入门指南——《燃烧学1》辅助教程文中如有任何错误，敬请指出，以便不断改进；如有任何问题，欢迎提出，共同探讨助教博士生：卢智恒：热能系系馆办公室201（O）62782108 （H）627795742005.3一、CHEMKIN的安装和简介1－1 安装CHEMKINChemkin最早的版本始于1980，由美国San...
CHEMKIN_4.0.1入门指南
CHEMKIN 4.0.1入门指南——《燃烧学1》辅助教程一、CHEMKIN的安装和简介1－1 安装CHEMKINChemkin最早的版本始于1980，由美国Sandia实验室的Kee RJ等人编写，经过多年的不断发展日趋完善。后来由Reaction Design公司收购并继续开发，目前最新版为4.0.1。由于学习和科研需要，我们花费12000$向ReactionDesign公司订购了一套最新版本...
流化床-化学气相沉积技术的应用及研究进展
2016年第35卷第5期 CHEMICAL INDUSTRY AND ENGINEERING PROGRESS·1263·化 工 进 展流化床-化学气相沉积技术的应用及研究进展刘荣正，刘马林，邵友林，刘兵reactor technology（清华大学核能与新能源技术研...
化学气相法制备氮化铝的工艺流程
化学气相法制备氮化铝的工艺流程该文档是本店铺精心编制而成的，希望大家下载后，能够帮助大家解决实际问题。会计专业合作社实习报告内容与收获该化学气相法制备氮化铝的工艺流程该文档下载后可定制修改，请根据实际需要进行调整和使用，谢谢!本店铺为大家提供各种类型的实用资料，如教育随笔、日记赏析、句子摘抄、古诗大全、经典美文、话题作文、工作总结、词语解析、文案摘录、其他资料等等，想了解不同资料格式和写法，敬请关...
段毅提出的完整版ADN气相燃烧机理
附录二：完整版ADN气相燃烧机理 -------------------- &nb...
化学气相沉积特点
化学气相沉积特点 化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）是一种制备薄膜材料的技术。它通过在气相中传输气体分子的方式沉积在物质表面上。此技术的特点如下：deposition 一、沉积速率高 化学气相沉积具有较高的沉积速率，且可保证薄膜均匀，均一。沉积的速率可以调整，可以根据所需的沉积速度...
物理气相沉积和化学气相沉积
物理气相沉积和化学气相沉积物理气相沉积 (Physical Vapor Deposition, PVD) 是一种通过物理方式将源材料转化为薄膜的技术。在 PVD 过程中，源材料通常是固体或液体，通过热或电子束等方式将其转化为气态，再沉积在被涂层表面上。常用的 PVD 技术有阴极溅射、磁控溅射和真空电镀。化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition, CVD) 是一种通过化学反...
物理气相沉积特点
物理气相沉积特点物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，PVD）是一种将金属或非金属材料沉积在基底表面上的技术。它具有以下特点：一、高纯度物理气相沉积可以在真空环境中进行，不会受到空气、水等杂质的干扰，从而能够生产高纯度的薄膜。这使得PVD薄膜在电子器件等高科技产业中具有广泛的应用。二、可控性强物理气相沉积过程中，可以通过控制沉积条件、基底温度、沉积速度、沉积时间等参数来...
物理沉积法
物理沉积法物理气相沉积法用物理的方法使镀膜材料气化，在基体表面沉积成膜的方法物理气相沉积(Physical Vapor Deposition简称PVD) 是用物理的方法(如蒸发、溅射等)使镀膜材料气化，在基体表面沉积成膜的方法。除传统的真空蒸发和溅射沉积技术外，还包括近30 多年来蓬勃发展起来的各种离子束沉积，离子镀和离子束辅助沉积技术。其沉积类型包括: 真空蒸镀、溅射镀、离子镀等。物理气相沉积技...
流化床-化学气相沉积法可控及批量制备碳纳米管
21-I-004流化床－化学气相沉积法可控及批量制备碳纳米管骞伟中＊，魏飞清华大学化工系，100084，北京E-mail: qianwz@mail.tsinghua.edu化学气相沉积法目前已经发展成为批量制备碳纳米管的最有效率方法之一。而流化床－化学气相沉积法更是提供了大量碳纳米管充分生长的超大空间以及均匀的传热传质环境。在此，本文将总结流化床－化学气相沉积法的主要核心。1. 任何可以悬浮...
等离子体气相沉积法
等离子体气相沉积法等离子体气相沉积法（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD）是一种使用等离子体辅助的化学气相沉积法。该方法利用高能的等离子体活性物种来促进反应，并使气相中的前驱物分解和反应。这种方法通常用于制备薄膜材料，如硅薄膜、氮化硅薄膜等。在等离子体气相沉积法中，首先将气体前驱物引入反应室中，并在较低的压力下进行放电，产生等离子体。等离...
气相沉积法
气相沉积法 气相沉积法（GasDeposition）是一种新兴的生物技术，用于制造出一种细胞表面层的低温技术。它将一种液体气体通过振荡装置的电晕放射能的作用，使其在低温条件下沉积在物体表面上，以形成一层薄膜。目前，这种方法已经广泛应用于各种生物技术领域，如生物细胞表面修饰、蛋白质和生物大分子的表面改性、医疗、基因编辑、分子识别等，充分发挥着重要作用。 &nbs...
210875197_CH3SiCl3-H2_前驱体化学气相沉积法制备SiC_涂层
第52卷第2期表面技术2023年2月SURFACE TECHNOLOGY·289·CH3SiCl3-H2前驱体化学气相沉积法制备SiC涂层孙佳庆1,2，李江涛1，张东生1，赵红亮2，魏庆渤1，杨红霞1（1.巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司，河南 巩义 451200；2.郑州大学 材料科学与工程学院，郑州 450001）摘要：目的在石墨基座表面制备碳化硅（SiC）涂层，提高其抗氧化性和耐蚀性。方法采用...
PECVD设备的主要用途设备的主要用途设备的主要用途设备的主要用途_百 ...
PECVD设备的主要用途1.2.1 利用等离子体聚合法可以容易地形成与光的波长同等程度的膜厚。这样厚度的膜与光发生各种作用，具有光学功能性。即：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用。由于这种性质的存在，低温沉积Si3N4减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。 1.2.2 用于集成光电子器件介质SiYNX膜的制备，如半导体集成电路的衬底绝缘膜、多层布线间绝缘膜以及表面纯...
