fcvd原理
    FCVD（Flame Chemical Vapor Deposition）是一种常用的纳米材料制备技术，简单来说就是通过火焰化学气相沉积（CVD）方法来生成纳米级的化合物材料，如金属氧化物、碳化物、氮化物等材料。FCVD技术可以在相对较低的温度和压力下，制备具有较高晶体质量和结晶度的纳米薄膜材料，因此在各种应用领域得到广泛的应用，如材料科学、纳米技术、能源储存、传感器等领域。
    FCVD原理及制备过程如下：
    1. 燃烧产生火焰：FCVD技术需要一个燃烧产生火焰的设备，如Bunsen燃烧器或液化石油气火炬。火焰中心区域是高温和高压的条件，适合纳米材料沉积。
    2. 前驱体的供应：在火焰中，化合物的前驱体被供应到高温的火焰中心，其中前驱体可以是气态、液态或固态。例如，Fe(CO)5作为前驱体可以在低压、低温的FCVD合成金属铁的纳米成膜。
    3. 前驱体分解并沉积：加热前驱体可分解成原子，分子或复合物，然后再沉积到基底上
形成薄膜。通过调整火焰中的燃料、前驱体、氧化剂的比例和温度，可以控制薄膜的化学元素组成、晶体结构、尺寸、形状等参数。并通过控制氢气、氧气等气体的获取以引起沉积沉积速度的调节，可以实现制备不同性质的纳米材料薄膜。
deposition
    FCVD技术与传统CVD技术不同在于火焰中心区域的温度和压力相对较低，可以制备相对均匀的纳米材料薄膜，并且可以制备出一些传统CVD技术难以制备的材料。
    总之，FCVD作为制备纳米材料的一种新兴技术，应用前景十分广阔。未来FCVD技术还有许多可以优化和改进的地方，例如提高FCVD制备出的薄膜的生长速率并减小激发态的无序性等问题。