化学气相沉积法cvd1. 什么是化学气相沉积法（CVD）?CVD是chemical vapor deposition的缩写，是一种用于有机薄膜或无机薄膜制造的技术。它是一种通过将溶剂热散发形成薄膜的过程。在溶剂中添加了几种原料，其原理是热释放过程中会产生气态原料。当这些气态化合物沉积（即固化）在共晶材料表面（如金属和绝缘体表面）上，就形成了膜。deposition2. CVD的工艺流程CVD的工艺...

物理沉积法物理气相沉积法用物理的方法使镀膜材料气化，在基体表面沉积成膜的方法物理气相沉积(Physical Vapor Deposition简称PVD) 是用物理的方法(如蒸发、溅射等)使镀膜材料气化，在基体表面沉积成膜的方法。除传统的真空蒸发和溅射沉积技术外，还包括近30 多年来蓬勃发展起来的各种离子束沉积，离子镀和离子束辅助沉积技术。其沉积类型包括: 真空蒸镀、溅射镀、离子镀等。物理气相沉积技...

fcvd原理    FCVD（Flame Chemical Vapor Deposition）是一种常用的纳米材料制备技术，简单来说就是通过火焰化学气相沉积（CVD）方法来生成纳米级的化合物材料，如金属氧化物、碳化物、氮化物等材料。FCVD技术可以在相对较低的温度和压力下，制备具有较高晶体质量和结晶度的纳米薄膜材料，因此在各种应用领域得到广泛的应用，如材料科学、纳米技术、能源储...

激光划刻机LASERLight Amplification by Stimulated Emission of Radiation  激光器Category种类Components元器件Oscillator振荡器Scriber划线器CCDCharge Coupled Device 电荷耦合器件Alignment Camera对位镜头linear motor直线电机guide rail导轨...

21-I-004流化床－化学气相沉积法可控及批量制备碳纳米管骞伟中＊，魏飞清华大学化工系，100084，北京E-mail: qianwz@mail.tsinghua.edu化学气相沉积法目前已经发展成为批量制备碳纳米管的最有效率方法之一。而流化床－化学气相沉积法更是提供了大量碳纳米管充分生长的超大空间以及均匀的传热传质环境。在此，本文将总结流化床－化学气相沉积法的主要核心。1. 任何可以悬浮...

pecvd沉积边缘效应PECVD沉积边缘效应是在PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，增强型化学气相沉积）过程中产生的一种现象。PECVD是一种利用等离子体介质（plasma medium）在较低温度下进行气相沉积的技术。在PECVD过程中，等离子体的密度最高处于沉积物表面附近，然后逐渐减小向气相扩散。当气相中的前驱体（例如硅源气体）接近沉...

化学气相淀积    化学气相淀积(ChemicalVaporDeposition,CVD)是一种通过将其他化合物以气态状态溶解于试管中，利用热和加热力学过程将化合物变成固态沉积在某种物质表面上的方法。CVD技术在工业中也被称为气相沉积(GPD)。主要用于制造陶瓷、金属层和石墨烯等复杂材料，以及电子、量子级材料等。    CVD的施工过程一般包括反应气的选择、...

等离子体气相沉积法等离子体气相沉积法（Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition，PECVD）是一种使用等离子体辅助的化学气相沉积法。该方法利用高能的等离子体活性物种来促进反应，并使气相中的前驱物分解和反应。这种方法通常用于制备薄膜材料，如硅薄膜、氮化硅薄膜等。在等离子体气相沉积法中，首先将气体前驱物引入反应室中，并在较低的压力下进行放电，产生等离子体。等离...

气相沉积法    气相沉积法（GasDeposition）是一种新兴的生物技术，用于制造出一种细胞表面层的低温技术。它将一种液体气体通过振荡装置的电晕放射能的作用，使其在低温条件下沉积在物体表面上，以形成一层薄膜。目前，这种方法已经广泛应用于各种生物技术领域，如生物细胞表面修饰、蛋白质和生物大分子的表面改性、医疗、基因编辑、分子识别等，充分发挥着重要作用。  &nbs...

第52卷第2期表面技术2023年2月SURFACE TECHNOLOGY·289·CH3SiCl3-H2前驱体化学气相沉积法制备SiC涂层孙佳庆1,2，李江涛1，张东生1，赵红亮2，魏庆渤1，杨红霞1（1.巩义市泛锐熠辉复合材料有限公司，河南 巩义 451200；2.郑州大学 材料科学与工程学院，郑州 450001）摘要：目的在石墨基座表面制备碳化硅（SiC）涂层，提高其抗氧化性和耐蚀性。方法采用...

PECVD设备的主要用途1.2.1  利用等离子体聚合法可以容易地形成与光的波长同等程度的膜厚。这样厚度的膜与光发生各种作用，具有光学功能性。即：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用。由于这种性质的存在，低温沉积Si3N4减反射膜，以提高太阳能电池的光电转换效率。 1.2.2  用于集成光电子器件介质SiYNX膜的制备，如半导体集成电路的衬底绝缘膜、多层布线间绝缘膜以及表面纯...

[Article]www.whxb.pku.edu物理化学学报(Wuli Huaxue Xuebao )Acta Phys.鄄Chim.Sin .,2008,24(7)：1199-1206July Received:January 7,2008;Revised:March 31,2008;Published on Web:May 4,2008.∗Corresponding author.Em...

文章编号:　100025714(2005)042307204磁控溅射薄膜沉积速率的研究Ξ惠迎雪1,2，杭凌侠1，徐均琪1(1.西安工业学院光电工程学院，西安710032;2.西北工业大学)摘　要:　沉积速率是影响薄膜性能的重要参数，直接影响着薄膜质量的优劣.本文采用磁控溅射方法，在玻璃基底上沉积钛膜.通过对比研究了平衡磁控溅射和非平衡磁控溅射两种工作模式下，靶基距、氩气流量等工艺参数对沉积速率的影...

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表面工程名词解释汇总第一章1 表面工程也称为“表面技术”、“表面处理”或“表面改性”，是应用物理、化学、机械等方法改变固体材料表面成分或组织结构，获得所需性能的表面，以提高产品的可靠性或延长其使用寿命的各种技术的总称。2 原子沉积：原子、离子、分子及基团在基体上的凝聚、成核、长大；例如电镀、化学镀、蒸镀、溅射、气相沉积等。3 颗粒沉积：熔化的液滴、细小颗粒在外力作用下于基体表面凝聚、沉积或烧结；例...

PVD  PVD(Physical Vapor Deposition)，指利用物理过程实现物质转移，将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以是某些有特殊性能（强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等）的微粒喷涂在性能较低的母体上，使得母体具有更好的性能！  PVD基本方法：真空蒸发、溅射   1. PVD简介  PVD是英文Physical Vapor...

第21卷第2期2021年2月过程工程学报The Chinese Journal of Process EngineeringVol.21 No.2 F eb.2021DO I : 10.12034/j.issn. 1009-606X.220100Gas separation performance of [Emiml[BF 4卜supported ionic liquidmembranes pre...

真的了解镀膜工艺？先来这里看看导言镀膜是半导体及光学工业中最为重要的工艺之一。这里会总体归纳各类镀膜/薄膜工艺，从原理上了解这些工艺的异同。简介镀膜指在基材上形成从数纳米到数微米的材料层，材料可以是金属材料、半导体材料、以及氧化物氟化物等化合物材料。镀膜的工艺可以最简略的分为化学工艺及物理工艺：化学方法通常是液态或者气态的前体材料经过在固体表面的化学反应，沉积一层固体材料层。以下常见的镀膜工艺都是...

PECVDPECVD（Plasma-enhanced chemical vapor deposition，离子增强化学气相沉积）技术是一种利用电离气体产生的等离子体来促进薄膜的形成的一种沉积技术。该技术通常应用于太阳能光伏行业中的薄膜沉积过程中。PECVD技术主要通过以下步骤实现薄膜的沉积。首先，将需要沉积的衬底放置在反应室中，并对反应室进行抽真空处理，以确保环境中的杂质对沉积膜的质量没有干扰。然...

3D打印技术之FDM熔融沉积成型工艺（Fused Deposition Modeling）熔融沉积成型工艺（Fused Deposition Modeling，FDM）是继LOM工艺和SLA工艺之后发展起来的一种3D打印技术。该技术由Scott Crump于1988年发明，随后Scott Crump创立了Stratasys公司。1992年，Stratasys公司推出了世界上第一台基于FDM技术的3...

浊流沉积的CFD模型浊流沉积的CFD模型Simulation of the flow and deposition from a laboratory turbidity current, in which dense mixtures of sediment move down a narrow, sloping channel and flow into a large tank. SSHM...

pvd磁控溅射原理PVD磁控溅射简介PVD磁控溅射（Physical Vapor Deposition Magnetron Sputtering）是一种常用的薄膜制备技术。它能够在材料表面沉积一层精密、均匀的薄膜，具有广泛的应用领域。原理PVD磁控溅射利用高能粒子撞击物质表面，使得物质从源材料蒸发、溅射并沉积在基底上。以下是PVD磁控溅射的主要原理：1. 原始材料选择合适的源材料作为溅射靶材。这些...

[工艺]ThinFilmProcess的经典讲解ThinFilm(薄膜)主要包含CVD和PVD，CVD（Chemical Vapor Deposition)主要依靠反应气体在等离子体电离能量下，化学分解反应，主要用语后端温度比较低(~400,450C)。而PVD(Physical Vapor Deposition)主要是用来金属沉积，因为很少有金属的气态化合物分解产生单质金属，除了MOCVD的钨(...

表面处理定义 英文缩写    表面处理是指通过对物体表面进行处理，使其具有更好的表面性质、表面质量和表面功能的一种技术。这项技术可以提高物体的耐腐蚀性、耐磨性、耐高温性、防粘附性、美观性等多种性能，广泛应用于机械、汽车、电子、建筑等领域。    在表面处理的实践中，人们发现了一些共性问题，例如对于某些表面处理方法，需要对材料进行预处理以增强其表面的粗糙度；还...

ALD（原子层沉积）原子层沉积（Atomic layer deposition)是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法。原子层沉积与普通的化学沉积有相似之处。但在原子层沉积过程中，新一层原子膜的化学反应是直接与之前一层相关联的，这种方式使每次反应只沉积一层原子。单原子层沉积（atomic layer deposition，ALD），又称原子层沉积或原子层deposition外延...

第43卷第8期2022年8月Vol.43No.8Aug.,2022发光学报CHINESE JOURNAL OF LUMINESCENCE利用原子层沉积技术实现有机电致发光器件的薄膜封装刘春艳1，王源1，殷成雨1，李泽2，王振宇2，范思雨2，姜文龙1*，段羽2*（1.长春电子科技学院电子工程学院，吉林长春130114；2.吉林大学电子科学与工程学院，集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区，吉林...

【电子技术/Electronic Technology】DOI: 10.19289/j.1004-227x.2021.03.001 电泳沉积法制备高能量密度的非对称平面微型超级电容器刘红彬1, *，赵方方2（1.中移(苏州)软件技术有限公司，江苏苏州215000；2.力神电池(苏州)有限公司，江苏苏州215000）摘要：首先采用光刻、蒸镀金的方法制备叉指电极，随后把合成的具有赝电容特性的二维MnO...

Chemical Vapor Deposition for Thin Film Coatings化学气相沉积技术Chemical Vapor Deposition for Thin Film Coatings化学气相沉积技术是一种制备薄膜涂层的方法，可以制造出各种具有不同功能和性质的薄膜材料。该技术是由化学反应来产生的气体沉积在基材上，并形成与基材完全结合的薄膜。这种技术在制造电池、太阳能电池、光...

PEDOT交流电沉积制备及其物质输运机理摘要物理化学流体动力学是近代流体力学的一个重要分支，主要讨论流体流动与物理、化学等过程的相互作用关系。在电化学沉积过程中，反应物质首先要从电解质溶液中输运到电极表面，之后在电极表面发生反应，沉积在电极表面。在电解质溶液中物质的输运模型主要包括：扩散、电迁移和对流。当电化学反应的电信号是交流电时，由于电场的不均匀分布，粒子将发生极化，产生电力矩。在交流不均匀的...