工艺技术
二十四所半导体工艺技术发展历程与展望
二十四所半导体工艺技术发展历程与展望何开全1,2，王志宽2，钟 怡1,2(1.模拟集成电路国家级重点实验室;2.中国电子科技集团公司第二十四研究所，重庆 400060)摘 要: 回顾了中电科技集团公司第二十四研究所自建所以来的半导体集成电路工艺发展历程。晶圆尺寸从1.5吋(40mm)到6吋(150mm)，特征线宽从10μm到0.5μm，器件特征频率从低频到射频，工作电压从5V到800V，包括射频和...
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